带电粒子曝光用光罩

摘要

模板光罩12是由Si14，薄膜26，虚拟薄膜28等所构成，以预定的接着处32来接着于框30。接着后虽于模板光罩12会产生内部应力，但因为此内部应力会集中于虚拟薄膜28，所以光罩图案形成区域23的薄膜26之内部应力大概可被维持于4MPa以下，最大10MPa以下。藉此带电粒子曝光用光罩，可使产生于光罩图案形成区域的内部应力减少，使光罩图案形成高精度。