发明名称 减少透镜像差之光罩与方法
摘要 一种可减少透镜像差之光罩,包括一透光基底与一遮光层,该遮光层设置于该透光基底上,且该遮光层边缘部份具有复数个虚设图案与复数个辅助图案,上述辅助图案系设置于上述虚设图案之外部。一种可减少透镜像差之方法,包括下列步骤:提供一半导体基底,于该半导体基底上覆盖有一光阻层,藉由一光罩在该光阻层中形成图案,其中该光罩边缘部份具有复数个虚设图案与复数个辅助图案,上述辅助图案系设置于上述虚设图案之外部,以上述图案化光阻为一罩幕,进行一蚀刻步骤以在该半导体基底中形成复数个虚设沟槽。依照本发明之方法,可使虚设图案间之关键尺寸获得较佳之一致性。
申请公布号 TW200424755 申请公布日期 2004.11.16
申请号 TW092112010 申请日期 2003.05.01
申请人 南亚科技股份有限公司 发明人 吴元薰;王显荣
分类号 G03F1/14 主分类号 G03F1/14
代理机构 代理人 洪澄文;颜锦顺
主权项
地址 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路六六九号