发明名称 曝光罩幕及图案曝光法
摘要 本发明有关一种能够降低液晶显示装置的显示不均匀性之曝光罩幕。一其中镶嵌状排列有图案形成部及遮蔽部之罩幕图案系形成于一曝光罩幕的一端部中,且一具有以与前述罩幕图案互补方式排列的图案形成部及遮蔽部之罩幕图案系形成曝光罩幕的另一端部。并且,将曝光罩幕形成为可使得其中镶嵌状排列有图案形成部及遮蔽部之遮蔽部的垂直或侧向相邻者之间的区域亦受到遮蔽。
申请公布号 TW200424754 申请公布日期 2004.11.16
申请号 TW093106504 申请日期 2004.03.11
申请人 富士通显示技术股份有限公司 发明人 藤川彻也;田中义规
分类号 G03F1/08 主分类号 G03F1/08
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 日本