气化器

摘要

本发明提供一种气化器，在即使减少随半导体制造(后简称：CVD)原料一同供给的载气供给量，或者在提高溶解在溶剂中的固体CVD原料浓度来进行气化供给的情况下，也能够防止固体CVD原料析出附着在气化室喷出口周围，并可长时间稳定CVD原料，以期望浓度和流量有效地提供气化供给。气化器构成如下：在CVD原料供给部具备双层结构的喷出管，其外管的外壁直径朝气化室喷出口渐窄的具有锥形部或曲线部。