发明名称 锗化合物
摘要 提供适合用作为锗膜之气相沉积前驱物之锗化合物。提供使用此种锗化合物沉积含锗薄膜之方法。此种锗膜特别适合用于制造电子装置。
申请公布号 TW200424331 申请公布日期 2004.11.16
申请号 TW093109338 申请日期 2004.04.05
申请人 罗门哈斯电子材料有限公司 发明人 渥克 亚伯特;史纳可 迪欧 韦纳
分类号 C23C14/14 主分类号 C23C14/14
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 美国