发明名称 可挠性电路基板及其制造方法,可挠性多层配线电路基板及其制造方法
摘要 提供在与其他的可挠性电路基板40积层时,在该配线膜4a、4a间不会产生空隙之可挠性电路基板22,进而,提供令复数之可挠性电路基板之其间没有空隙,变形少之可挠性多层配线电路基板。作为可挠性电路基板系使用令设置于凸块6形成面之层间绝缘膜10的相反于金属构件2侧之接着层16、16a的厚度比金属构件2侧还后者之22。在令可挠性电路基板22和别的可挠性电路基板40积层,以构成可挠性多层配线电路基板50时,该接着层16、16a系作成可充分填充配线膜4a、4a间故,可令空隙不见。进而,可以提供变形少之可挠性多层配线电路基板50。
申请公布号 TW200425367 申请公布日期 2004.11.16
申请号 TW093113076 申请日期 2004.05.10
申请人 能洲股份有限公司;尤尼吉可股份有限公司;素尼化学股份有限公司 发明人 饭岛朝雄;大泽健治;远藤仁誉;越后良彰;繁田朗;小林和好;花村贤一郎
分类号 H01L21/60 主分类号 H01L21/60
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本