发明名称 |
可挠性电路基板及其制造方法,可挠性多层配线电路基板及其制造方法 |
摘要 |
提供在与其他的可挠性电路基板40积层时,在该配线膜4a、4a间不会产生空隙之可挠性电路基板22,进而,提供令复数之可挠性电路基板之其间没有空隙,变形少之可挠性多层配线电路基板。作为可挠性电路基板系使用令设置于凸块6形成面之层间绝缘膜10的相反于金属构件2侧之接着层16、16a的厚度比金属构件2侧还后者之22。在令可挠性电路基板22和别的可挠性电路基板40积层,以构成可挠性多层配线电路基板50时,该接着层16、16a系作成可充分填充配线膜4a、4a间故,可令空隙不见。进而,可以提供变形少之可挠性多层配线电路基板50。 |
申请公布号 |
TW200425367 |
申请公布日期 |
2004.11.16 |
申请号 |
TW093113076 |
申请日期 |
2004.05.10 |
申请人 |
能洲股份有限公司;尤尼吉可股份有限公司;素尼化学股份有限公司 |
发明人 |
饭岛朝雄;大泽健治;远藤仁誉;越后良彰;繁田朗;小林和好;花村贤一郎 |
分类号 |
H01L21/60 |
主分类号 |
H01L21/60 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 |