形成无侧叶现象之光阻层的方法

摘要

本发明系为一种形成不具一侧叶(sidelobe)之光阻层的方法，其系利用对一光罩进行曝光而完成，光罩具有一侧叶区、一图案区以及一中间区，侧叶区系对应于光阻层产生侧叶的区域，图案区系对应于光阻层产生一图案的区域，中间区系介于侧叶区与图案区之中间区域，本方法的特征系为：设定侧叶区之穿透率低于中间区的穿透率，使得侧叶区的光强度低于引发光阻层之光反应的能量阈。