发明名称 控制质量位置,尤其在微影装置中控制质量位置
摘要 本发明提供一种控制器,尤其是在微影装置中,用以藉由一控制力量来控制一质量(例如基板工作台(12))的位置。该控制器会从该质量(12)处接收一回授位置信号,并且从该回授位置信号及该控制力量中计算一预测质量(m)。接着,该控制器会利用该预测质量(m)以及一预期的质量加速度来决定用以加速该质量(m)所需要的控制力量,并且将其移至预期位置。
申请公布号 TW200424801 申请公布日期 2004.11.16
申请号 TW093104794 申请日期 2004.02.25
申请人 ASML公司 发明人 汉斯 包特乐
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰