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发明名称
控制质量位置,尤其在微影装置中控制质量位置
摘要
本发明提供一种控制器,尤其是在微影装置中,用以藉由一控制力量来控制一质量(例如基板工作台(12))的位置。该控制器会从该质量(12)处接收一回授位置信号,并且从该回授位置信号及该控制力量中计算一预测质量(m)。接着,该控制器会利用该预测质量(m)以及一预期的质量加速度来决定用以加速该质量(m)所需要的控制力量,并且将其移至预期位置。
申请公布号
TW200424801
申请公布日期
2004.11.16
申请号
TW093104794
申请日期
2004.02.25
申请人
ASML公司
发明人
汉斯 包特乐
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
荷兰
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