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经营范围
发明名称
投影曝光用罩,投影曝光装置及投影曝光方法
摘要
揭示一种欲对着被曝光构件进行曝光连续形状图案和不连续形状图案之小型且低成本的投影曝光用罩。投影曝光用罩是具有:欲对着被曝光构件加以曝光连续图案的第一罩图案、和欲对着前述被曝光构件加以曝光不连续图案的第二罩图案。前述第一及第二罩图案之中的其中一方的罩图案是属于反射型罩图案,另一方的罩图案是属于穿透型罩图案。
申请公布号
TW200424797
申请公布日期
2004.11.16
申请号
TW092137502
申请日期
2003.12.30
申请人
佳能股份有限公司
发明人
饭塚和央;矶端纯二;田中信义
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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