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发明名称
制造一光学元件之方法,微影装置及元件制造方法
摘要
本发明揭示一种制造光学元件之制造方法,其包括选择性地电浆蚀刻一多层堆叠及以一膜如反射涂层覆盖得到之替换外形。
申请公布号
TW200424791
申请公布日期
2004.11.16
申请号
TW092132140
申请日期
2003.11.17
申请人
ASML公司
发明人
马皆尔 马斯 赛多尔 马里 戴里奇;THEODORE, MARIE DIERICHS;爱利克 罗夫 鲁波斯特
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
荷兰
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