晶圆、曝光光罩、侦测标示之方法及曝光之方法

摘要

本发明系揭示一种晶圆、曝光光罩、侦测校准标示之方法及曝光方法，其可改良该校准的准确度，以及该晶圆与曝光光罩间之间隙校正。木发明提供之晶圆具有一校准标示(晶圆标示)，其具有之边缘在接近曝光期间使校准用检查光散布在一曝光表面，该晶圆标示特征为具有点图案群，其由配置于预设方向之点图案所构成。藉由以排列间隔P2于方向X中排列点图案，而配置该点图案群，排列间隔P2宽于点图案之排列间隔P1。此外，亦提供一曝光光罩，其用于类似接近曝光中，具有校准标示作为光罩标示，该标示具有与该等晶圆标示类似之配置。