发明名称 自动对准接触插塞及其制造方法
摘要 一种先进半导体元件结构,先进电晶体包括超薄体电晶体和多闸极电晶体。其中先进电晶体的源/汲极区为一闸极堆叠所分隔。一接触间隙壁位于闸极堆叠的侧壁,一被动层覆盖先进电晶体,接触插塞位于被动层内,接触插塞与部分接触间隙壁及源/汲极区连接。制造自动对准接触插塞的方法包括先形成接触间隙壁,再形成被动层。接着,形成接触孔洞于被动层内,再于接触孔洞填满导体材质。
申请公布号 TW200425299 申请公布日期 2004.11.16
申请号 TW093109136 申请日期 2004.04.01
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 杨富量;杨育佳;曾鸿辉;胡正明
分类号 H01L21/28 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人 蔡坤财
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路八号