制造LCD用正型光阻组成物及光阻图型之形成方法POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURING LCD AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN

摘要

本发明提供一种即使在低NA(开口)条件下，仍能以高解像度形成光阻图型，且线型(linearitg)更良好的LCD制造用之光阻材料。该光阻材料系LCD制造用正型光阻组成物，而其特征为：含有(A)硷可溶性树脂，(B)聚苯乙烯换算质量平均分子量在300至1300之低分子量酚醛清漆树脂与二叠氮磺酸化合物的平均酯化率在30至90％之酯化反应生成物，(C)分子量在1000以下之含酚性羟基之化合物，(D)有机溶剂。