| 摘要 |
本发明系提供一种用以形成多孔质矽石之涂布液，且其特征为：较佳为以含有烷氧基矽烷化合物之部份水解缩合物、界面活性剂、及有机两性电解质所构成，且其金属含量为50ppb以下。先前之用以形成多孔质矽石之涂布液，当保存期间一旦变长，则有可能导致所制得之多孔质矽石薄膜之细孔的排列规则性会变低之情形。与此相对，若根据本发明之用以形成多孔质矽石之涂布液，则可提供一种具有优越的保存安定性之涂布液。亦即，所制得之多孔质矽石之品质就不易受到上述涂布液的保存期间之影响。因此，可期望稳定地生产一种即使暴露于电场，也不会引起电容、电压之移位，并且具有规则性排列之均匀的细孔，可适合用作为光机能材料或电子机能材料的多孔质矽石薄膜之稳定生产有所贡献。 |
