具有中间检查膜层之改良式光罩

摘要

本发明通常系关于积体电路与其他半导体装置之制造中微影蚀刻使用之改良式光罩半成品，而更特定言之，系关于加工之后，此等光罩中缺陷的侦测。本发明特别是指具有一或更多中间层之光罩半成品，而制成该(等)中间层之材料的消光系数，在检查工具波长上比在曝光工具波长上高。制成中间层之材料，能吸收足够数量之光线，以符合检查工具之光学要求，同时透射足够数量之光线，以符合曝光工具之光学要求。结果，该光罩改善了光罩的检查结果，且没有牺牲半导体写入过程期间的透射性质。