发明名称 | 光罩图案 | ||
摘要 | 一种光罩图案,形成于一基板上,此一光罩图案系由主图案以及反相次解析辅助图案所组成,其中反相次解析辅助图案系位于主图案侧边。而反相次解析辅助图案包括一第一辅助图案以及一第二辅助图案,而第一辅助图案系接近主图案,其中第一辅助图案与主图案之相位差为180度,第二辅助图案则是远离主图案,且相邻于第一辅助图案,其中第二辅助图案与第一辅助图案之相位差为180度。由于主图案旁有反相的辅助图案,所以可增加其曝光时的解析度。 | ||
申请公布号 | TW200424748 | 申请公布日期 | 2004.11.16 |
申请号 | TW092113045 | 申请日期 | 2003.05.14 |
申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 林金隆;杨春晖;洪文田 |
分类号 | G03F1/00;H01L21/027 | 主分类号 | G03F1/00 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路三号 |