掩罩及其制造方法,曝光,及装置制造方法

摘要

一掩罩布置一预定图案及一小于预定图案之辅助图案，使得假设有一虚拟晶格，虚拟晶格有一晶格点位在预定图案中心，辅助图案中心则偏离虚拟晶格之晶格点。