成膜装置及其所使用之原料供给装置,气体浓度测定方法

摘要

本发明之目的在提供一种CVD成膜装置，其系即使藉由使用低蒸气压原料之CVD法成膜时，仍可高度精密且迅速地调整载气中之原料气体浓度。本发明系一种成膜装置，其具备于成膜室内供给成膜用之原料气体用之原料供给装置，上述原料供给装置之特征为包含：浓度测定手段，其系测定搬运原料气体之载气中该原料气体之浓度；及惰性气体流量控制手段，其系依据上述原料气体之测定浓度，增减附加于上述载气之惰性气体流量。藉由增减惰性气体之流量，可轻易且迅速地控制原料气体之浓度。