多层膜材料之乾式蚀刻方法

摘要

本发明提供一种含有金属薄膜的多层膜材料之乾式蚀刻方法，其特征为：作为蚀刻气体，而将含有羰基的气体及含有卤元素的气体中之至少1种气体与电子供予性气体组合使用。由此，可提升蚀刻速度及蚀刻各向异性等的蚀刻特性，以减少图案侧壁聚合物膜(9)之生成之同时，可有效去除所生成的图案侧壁聚合物膜(9)。