发明名称 Single-type cleaning device for cleaning a semiconductor wafer of the control and monitoring method
摘要 본 발명은 웨이퍼 지지 및 회전을 위한 복수개의 스핀장치와, 상기 스핀장치에 지지되어 회전되는 웨이퍼에 약액 및 세정수를 공급하기 위한 공급장치와, 상기 스핀장치와 공급장치를 제어하기 위한 제어장치와, 상기 제어장치에 의해 제어되는 스핀장치와 공급장치의 상태를 표시하기 위한 모니터를 포함하는 싱글타입 세정장치의 제어 및 모니터링 방법에 있어서, 상기 스핀장치의 피처리 웨이퍼의 세정을 위한 레시피를 설정하는 레시피 설정 단계(S10)와; 상기 레시피 설정 단계(S10)에서 설정된 레시피가 실행 가능한지 여부를 확인하도록 공급장치의 약액 및 세정수의 보유량과, 스핀장치의 피처리 웨이퍼의 안착 유무를 체크하는 것을 포함하는 레시피 실행 조건 체크 단계(S20)와; 상기 레시피 실행 조건 체크 단계(S20)를 통해 레시피 실행 조건이 만족하면 레시피를 실행하고, 불만족이면 레시피의 실행을 중지하는 레시피 구동 단계(S30);를 포함하는 반도체 웨이퍼 세정용 싱글타입 세정장치의 제어 및 모니터링 방법에 관한 것이다.
申请公布号 KR101642411(B1) 申请公布日期 2016.07.25
申请号 KR20140100990 申请日期 2014.08.06
申请人 박기환;주식회사 앤아이윈 发明人 박기환
分类号 H01L21/302;H01L21/66 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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