| 主权项 |
1.一种快速排水清洗槽(QDR Tank),至少包含:一槽体,其中该槽体至少包括一排水孔位于该槽体之一底部;以及一导流板(Flow Regulator Plate)固定在该排水孔上方之该槽体上,其中该导流板至少包括一分流板,且该分流板至少包括复数个分流孔以及一遮蔽部,而该遮蔽部位于该排水孔之上方,以使该槽体之一排出喷流场转变成一均匀流场。2.如申请专利范围第1项所述之快速排水清洗槽,其中该导流板至少包括:复数个连接部分别固接在该分流板之两侧,且该些连接部从该分流板之一底部向下突出;复数个滑轨,其中该些滑轨与该些连接部接合而固定在该分流板之该些侧的下方,且该些滑轨与该分流板之该底部之间形成一活动空间;复数个伸缩部分别位于该些滑轨之两端,且该些伸缩部可活动于该活动空间中,以调整该导流板之一长度;以及复数个调整元件,用以将该些伸缩部固定在该分流板与该些滑轨之间。3.如申请专利范围第2项所述之快速排水清洗槽,其中该导流板之该长度等于该槽体之内部的长度,而使该导流板固定于该槽体中。4.如申请专利范围第2项所述之快速排水清洗槽,其中该些调整元件为复数个螺丝。5.如申请专利范围第1项所述之快速排水清洗槽,其中该导流板之材质为一高硬度材料。6.如申请专利范围第1项所述之快速排水清洗槽,其中该导流板之材质为一耐高温材料。7.如申请专利范围第1项所述之快速排水清洗槽,其中该导流板之材质为一耐酸硷材料。8.如申请专利范围第1项所述之快速排水清洗槽,其中该导流板之材质为一抗静电材料。9.如申请专利范围第1项所述之快速排水清洗槽,其中该导流板之材质为聚醚醚酮(PEEK)。10.一种快速排水清洗槽,至少包含:一槽体,其中该槽体至少包括一排水孔位于该槽体之一底部;以及一导流板固定在该排水孔上方之该槽体上,其中该导流板至少包括一分流板,且该分流板上至少包括复数个分流孔,而可将该槽体之一排出喷流场转变成一均匀流场。11.如申请专利范围第10项所述之快速排水清洗槽,其中该导流板之材质为一高硬度材料。12.如申请专利范围第10项所述之快速排水清洗槽,其中该导流板之材质为一耐高温材料。13.如申请专利范围第10项所述之快速排水清洗槽,其中该导流板之材质为一耐酸硷材料。14.如申请专利范围第10项所述之快速排水清洗槽,其中该导流板之材质为一抗静电材料。15.如申请专利范围第10项所述之快速排水清洗槽,其中该导流板之材质为聚醚醚酮。16.如申请专利范围第10项所述之快速排水清洗槽,其中该导流板更至少包括:复数个连接部分别固接在该分流板之两侧,且该些连接部突出于该分流板之一底部;复数个滑轨,其中该些滑轨与该些连接部接合而固定在该分流板之该些侧的下方,且该些滑轨与该分流板之该底部之间形成一活动空间;复数个伸缩部分别位于该些滑轨之两端,且该些伸缩部可活动于该活动空间中,以调整该导流板之一长度;以及复数个调整元件,用以将该些伸缩部固定在该分流板与该些滑轨之间。17.如申请专利范围第16项所述之快速排水清洗槽,其中该分流板更至少包括一遮蔽部,且该遮蔽部位于该排水孔之上方。18.如申请专利范围第16项所述之快速排水清洗槽,其中该导流板之该长度等于该槽体之内部的长度,而使该导流板固定于该槽体中。19.如申请专利范围第16项所述之快速排水清洗槽,其中该些调整元件为复数个螺丝。20.一种快速排水清洗槽,至少包含:一槽体,其中该槽体至少包括一排水孔位于该槽体之一底部;以及一导流板,固定在该排水孔上方之该槽体上,其中该导流板至少包括:一分流板,其中该分流板上至少包括复数个分流孔;复数个连接部分别固接在该分流板之两侧,且该些连接部突出于该分流板之一底部;复数个滑轨,其中该些滑轨与该些连接部接合而固定在该分流板之该些侧的下方,且该些滑轨与该分流板之该底部之间形成一活动空间;复数个伸缩部分别位于该些滑轨之两端,且该些伸缩部可活动于该活动空间中,以调整该导流板之一长度;以及复数个调整元件,用以将该些伸缩部固定在该分流板与该些滑轨之间。21.如申请专利范围第20项所述之快速排水清洗槽,其中该分流板更至少包括一遮蔽部,且该遮蔽部位于该排水孔之上方。22.如申请专利范围第20项所述之快速排水清洗槽,其中该导流板之该长度等于该槽体之内部的长度,而使该导流板固定于该槽体中。23.如申请专利范围第20项所述之快速排水清洗槽,其中该些调整元件为复数个螺丝。24.如申请专利范围第20项所述之快速排水清洗槽,其中该导流板之材质为聚醚醚酮。图式简单说明:第1图系绘示习知快速排水清洗槽之剖面示意图。第2图系绘示依照本发明一较佳实施例的一种快速排水清洗槽之导流板的立体图。第3图系绘示依照本发明一较佳实施例的一种快速排水清洗槽之上视图。第4图系绘示依照本发明一较佳实施例的一种快速排水清洗槽之剖面图。 |
