| 主权项 |
1.一种弹力量测装置之改良结构,其至少包括:一基座,其上设有一直立支架;一横移调整座,系设置于前述直立支架之前侧,且系沿一基座上预设之一轨道往复滑移,于该横移调整座上设有:一容置空间,以容纳定位一起始轮座;一推拉力计,系以一具回复功能之垂直调整座结合于前述直立支架上,该推拉力计上设有一显示装置,以供显示量测数据,且于推拉力计之量测端延伸有一量测头支座;一量测头,其一端设有二对称凸伸之量测脚,另一端则一枢设于前述量测头支座之下端,使该量测头具有依该枢设具为中心而枢转之能力;藉该量测头得于量测头支上枢转之功能,可在量测时依二量测脚传达之弹性支撑力的不同,产生适当之偏转,以产生不同之下压程度,使二量测脚压力値得以平衡测量者。2.依申请专利范围第1项所述之弹力量测装置之改良结构,其中之基座设有一枢转支座,以枢直立支架连动推拉力计产生向后倾转,以利工件之取置者。3.如申请专利范围第2项所述之弹力量测装置之改良结构,其中该直立支架于接近底端处延伸设有一横支架,并以其枢设于枢转支座上者。4.如申请专利范围第3项所述之弹力量测装置之改良结构,其中该横支架于非结合直立支架之另一端处,设有一向下凸伸之挡止顶杆,利用该挡止顶杆可在直立支架向后倾转时撑抵于基座,形成直立支架向后倾转之定位者。5.如申请专利范围第1或2或3或4项所述之弹力量测装置之改良结构,其中该横移调整座之一侧设有复数定位孔,分别对应于起始轮座上之各起始轮位置,且于该横移调整座旁侧之基座上,相对设有一间距定位支架,该间距定位支架上设有一可弹性定位装置,利用该定位装置弹性嵌入上述定位孔之作用,可使横移调整座上起始轮座之各起始轮,能被精准定位至待量测位置者。6.如申请专利范围第1或2或3或4项所述之弹力量测装置之改良结构,其中该推拉力计旁侧并可连动一分厘调整装置,且于该分厘之调整装置之伸缩调整端移动路径上,设有一由前述直立支架延伸出之挡止板,利用该分厘调整装置调整其伸缩长度,及配合挡止板之阻挡,可控制该分厘调整装置连动推拉力计之量测下压行程者。7.如申请专利范围第5项所述之弹力量测装置之改良结构,其中该推拉力计旁侧并可连动一分厘调整装置,且于该分厘之调整装置之伸缩调整端移动路径上,设有一由前述直立支架延伸出之挡止板,利用该分厘调整装置调整其伸缩长度,及配合挡止板之阻挡,可控制该分厘调整装置连动推拉力计之量测下压行程者。8.如申请专利范围第1或2或3或4项所述之弹力量测装置之改良结构,其中该横移调整座上,朝向操作者之一侧设有一凸伸之调整把手,以便于拉动横移调整座横向滑移者。9.如申请专利范围第5项所述之弹力量测装置之改良结构,其中该横移调整座上,朝向操作者之一侧设有一凸伸之调整把手,以便于拉动横移调整座横向滑移者。10.如申请专利范围第6项所述之弹力量测装置之改良结构,其中该横移调整座上,朝向操作者之一侧设有一凸伸之调整把手,以便于拉动横移调整座横向滑移者。图式简单说明:第1图系习见开始轮与相关开始轮座之结构说明图。第2图系本创作之整体结构示意图。第3A图系本创作之前视平面构造图。第3B图系本创作之横移调整动作示意图。第4A图系本创作之侧视平面构造图。第4B图系本创作之量测动作示意图。第5A图系本创作量测头之前视平面构造图。第5B图系本创作量测头随开始轮偏斜之动作示意图。 |
