发明名称 减少显影剂残余物用之显影水溶液
摘要 一种用于显影光阻或其相似物的硷性显影水溶液其内含A)介于大约0.05至1.0重量百分率之间的一第一界面活性剂或界面活性剂混合物,用作为抗浮渣剂(anti-scum),该第一界面活性剂具有一般式为:R-O-(AO)n-H其中AO系选自环氧乙烷单元(CH2-CH2-O)、环氧丙烷单元[(CH(CH3)-CH2-o)或CH2-CH(CH3)-O]及环氧乙烷单元与环氧丙烷单元的混合物或其分子的混合物之环氧硷性基单元,其中R为一疏水基团,n介于大约8至200之间;以及B)介于大约0.05至1.0重量百分率之间的有机盐,用作为一第二界面活性剂,其具有构造式为:其中R为一烷基或芳基,较佳为苯基,A系选自由羧基、磺醯基、磷基及其混合物所组成之族群,较佳为磺醯基,M为平衡电荷之阳离子,及n介于大约1至200之间,较佳为介于大约2至100之间,A)与B)的重量比介于大约1:5至大约5:1之间。
申请公布号 TWI223735 申请公布日期 2004.11.11
申请号 TW088120379 申请日期 1999.12.10
申请人 尼奇歌-马顿有限公司 发明人 丹尼尔.爱德华.郎迪;罗伯特.克莱门斯.贝尔
分类号 G03F7/032 主分类号 G03F7/032
代理机构 代理人 蔡清福 台北市中正区忠孝东路一段一七六号九楼
主权项 1.一种硷性显影剂水溶液,其包含0.1至3.0重量百分率的硷性,其改良在于该显影剂水溶液包含A)介于0.05至1.0重量百分率之间的一第一界面活性剂或界面活性剂混合物,该第一界面活性剂具有一般式为:R-O-(AO)n-H其中AO系为选自环氧乙烷单元(CH2-CH2-O)、环氧丙烷单元[(CH(CH3)-CH2-O)或CH2-CH(CH3)-O]及环氧乙烷单元与环氧丙烷单元的混合物或其分子混合物之环氧硷性基单元,其中R为一疏水基团,n介于8至200之间;以及B)介于0.05至1.0重量百分率之间的有机盐,用作为一第二界面活性剂,其具有构造式为:其中R为一苯基,A系为一磺醯基,M为平衡电荷之阳离子,及n介于2至200之间,A)与B)的重量比介于1:5至5:1之间。2.如申请专利范围第1项所述的溶液,其中A)之n至少为10。3.如申请专利范围第1项所述的溶液,其中A)之R为碳氢基团。4.如申请专利范围第1项所述的溶液,其中A)之R为三苯乙烯酚(tristrylphenol)。5.如申请专利范围第1项所述的溶液,其更包含介于0.01至1.0重量百分率之间的一消泡剂。6.一种在一基材上制备图案化的光阻图案的方法,其包含:提供一光阻层于该基材上,该光阻包含一酸性结合剂聚合物及光聚合性化合物;将该光阻层曝露于具有图案的光化辐射中;及在一硷性显影水溶液中显影该光阻层,该硷性显影水溶液包含介于0.1至3.0重量百分率之间的一硷性,以及A)介于0.05至1.0重量百分率的一第一界面活性剂或界面活性剂混合物,该第一界面活性剂具有一般式为:R-O-(AO)n-H其中AO系为选自环氧乙烷单元(CH2-CH2-O)、环氧丙烷单元[(CH(CH3)-CH2-O)或CH2-CH(CH3)-O]及环氧乙烷单元与环氧丙烷单元的混合物或其分子混合物之环氧硷性基单元,其中R为一疏水基团,n介于8至200之间;以及B)介于0.05至1.0重量百分率之间的有机盐,作为一第二界面活性剂,其具有构造式为:其中R为一苯基,A系为一磺醯基,M为平衡阳离子,及n介于2至200之间,A)与B)的重量比介于1:5至5:1之间。7.如申请专利范围第6项所述的方法,其中A)之n至少为10。8.如申请专利范围第6项所述的方法,其中A)之R为碳氢基团。9.如申请专利范围第6项所述的方法,其中A)之R为三苯乙烯酚(tristrylphenol)。10.如申请专利范围第6项所述的方法,其更包含介于0.01至1.0重量百分率之间的一消泡剂。
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