CIRCUIT ARRANGEMENT FOR IMPEDANCE COMPENSATION

摘要

Die Erfindung betrifft eine Schaltungsanordnung zur Impedanzkompensation, die an Vorrichtungen zur plasmagestützten Oberflächenbearbeitung in Vakuumkammern eingesetzt werden kann. Aufgabengemäss soll mit der Erfindung die Plasmaimpedanz, insbesondere auch im hochfrequenten Bereich, einfach und kostengünstig kompensiert werden können, um Leistungsverluste zu vermeiden und eine ausreichend hohe Spannung zur Zündung von Niederdruckgasentladungen an Elektroden in Vakuumkammern zur Verfügung zu stellen, wobei zur Oberflächenbearbeitung grossformatige Elektrodenflächen für entsprechend grossformatige Substrate eingesetzt werden sollen. Erfindungsgemäss ist bei der Schaltungsanordnung zur Impedanzkompensation mit mindestens einer in einer Vakuumkammer angeordneten Elektrode, die mittels einer Leitung oder eines Leitungssystems zur Leistungseinkopplung und Erzeugung von Niederdruckgasentladungen an einen HF-Generator angeschlossen ist, an jedem Leistungseinspeisungspunkt jeweils ein Zwei- oder Vierpol angeschlossen. Wobei ein Pol bei einem Zweipol oder an zwei Polen eines Vierpols Erdpotential angelegt ist.