| 摘要 |
<p>Zur Erzielung optimaler Reflektivität auf optischen Elementen für den EUV- und weichen Röntgenwellenlängebereich werden aus einer Mehrzahl von Schichten aufgebaute Multilayer eingesetzt. Kontamination bzw. Degradation der Oberfläche führt zu Abbildungsfehlern und Transmissionsverlusten. Bisher wird versucht, einer negativen Veränderung der Oberfläche entgegenzuwirken, indem auf der Oberfläche des reflektiven optischen Elementes ein Deckschichtsystem vorgesehen wird, das die Oberfläche schützen soll. Der vorliegenden Erfindung liegt der Ansatz zugrunde, durch eine gezielte Wahl der Dickenverteilung des Deckschichtsystems, wobei mindestens eine Schicht des Deckschichtsystems einen Gradienten ungleich Null aufweist, den Einfluss der Oberflächendegradation handhabbar zu machen.</p> |
