Maskenrohling zur Verwendung in der EUV-Lithographie und Verfahren zu dessen Herstellung

摘要

Die Erfindung betrifft einen Maskenrohling (mask blank) zur Verwendung in der EUV-Lithographie und ein Verfahren zu dessen Herstellung. DOLLAR A Der Maskenrohling umfasst ein Substrat mit einer Vorderseite und einer Rückseite, wobei auf der Vorderseite eine Beschichtung zur Verwendung als Maske in der EUV-Lithographie aufgebracht ist und die Rückseite eine elektrisch leitfähige Beschichtung aufweist. Die elektrisch leitfähige Beschichtung ist gemäß DIN 58196-5, DIN 58196-4 und DIN 58196-6 besonders abriebsfest und haftbeständig und zeichnet sich durch eine elektrische Mindestleitfähigkeit aus. Das Substrat besteht aus einem Nullausdehnungsmaterial. Die elektrisch leitfähige Beschichtung wird mittels eines Ionenstrahl-gestützten Sputterns aufgebracht. DOLLAR A Weil die elektrisch leitfähige Rückseitenbeschichtung so abriebsfest und haftbeständig ist, kann der Maskenrohling mit Hilfe einer elektrostatischen Haltevorrichtung (chuck) ergriffen, gehalten und gehandhabt werden, ohne dass es zu einem störenden Abrieb kommt.