发明名称 一种用于气相沉积的水平式反应器结构
摘要 本发明涉及一种用于气相沉积的水平式反应器的结构,其特征在于采用了源气垂直喷淋供给的方式。该反应器结构由两组喷淋头、一路载气、一个样品托和一个圆形或者方形的水平腔体构成,整个反应器结构放在水平腔体内,源气和载气进气口和出气口分别在水平腔体的两端,使用时反应器水平放置。由于采用垂直喷淋供气方式,使得两种反应气体在混合区很小的情况下也可以实现均匀混合,既保证了外延生长中大面积均匀性的实现,同时也减少了对外延生长有害的预反应的发生。采用喷淋头与样品平行的结构,既可以采用集成化的反应器结构,即源气喷淋头和样品托固定在一起,也可以分别控制各气路的位置,使得反应器容易加工,使用灵活,适合于批量生产。
申请公布号 CN1544687A 申请公布日期 2004.11.10
申请号 CN200310108793.0 申请日期 2003.11.21
申请人 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 发明人 于广辉;叶好华;雷本亮;李爱珍;齐鸣
分类号 C23C16/455 主分类号 C23C16/455
代理机构 上海智信专利代理有限公司 代理人 潘振甦
主权项 1、一种用于气相沉积的水平式反应器结构,其特征在于:(1)反应器由两组喷淋头、一路载气、一个样品托和一个水平腔体构成;(2)两组源气以垂直喷淋方式分别从两个喷淋孔流出;两组气的喷淋头在空间上重叠,两路喷淋头的喷淋孔在水平位置上均匀相间排开,与下面的样品托上下对正;(3)载气的方向沿水平式反应器方向,与源气方向垂直;(4)样品托的方向与喷淋头平行。
地址 200050上海市长宁区长宁路865号