Method to form C54 phase of TiSi2 for integrated circuit device fabrication,申请号EP20020368042-传众专利搜索

发明名称	Method to form C54 phase of TiSi2 for integrated circuit device fabrication
摘要
申请公布号	EP1251552(A3)	申请公布日期	2004.11.10
申请号	EP20020368042	申请日期	2002.04.19
申请人	CHARTERED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PTE LTD.	发明人	CHEN, SHAOYIN;SHERI, ZE XIANG;SEE, ALEX;CHAN, LAP
分类号	H01L21/268;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/336;(IPC1-7):H01L21/268;C30B1/02;C23C16/42	主分类号	H01L21/268
代理机构		代理人
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