| 发明名称 | 有机抗反射涂料聚合物,含该聚合物抗反射涂料组合物及其制备方法 | ||
| 摘要 | 下式1的有机抗反射聚合物、其制备方法、含有该聚合物的抗反射涂料组合物、和由该组合物制得抗反射涂层的方法。含该聚合物的抗反射涂层消除了由晶片的下层光学性能和光刻胶的厚度变化所引起的驻波，防止了由于从下层衍射和反射的光引起的回射和CD变换。这些优点使得能够形成适用于64M、256M、1G、4G和16G DRAM半导体器件的稳定的超微图案，改进生产产率和控制K值。还可以防止涂完后由于不平衡的酸度而导致的刻痕。<SUB>式1</SUB>∴ | ||
| 申请公布号 | CN1175009C | 申请公布日期 | 2004.11.10 |
| 申请号 | CN01123296.X | 申请日期 | 2001.06.30 |
| 申请人 | 海力士半导体有限公司 | 发明人 | 洪圣恩;郑旼镐;郑载昌;李根守;白基镐 |
| 分类号 | C08F20/10;C09D133/04 | 主分类号 | C08F20/10 |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 黄益芬 |
| 主权项 | 1.一种具有下式1的结构的化合物：<u>式1</u><img file="C011232960002C1.GIF" wi="1338" he="738" />其中，R<sup>a</sup>至R<sup>d</sup>各自独立为氢或甲基；R<sub>a</sub>至R<sub>d</sub>、和R<sub>1</sub>至R<sub>18</sub>各自独立为-H或者具有1至5个碳原子的取代或未取代的、或直链或支化的烷基或烷氧烷基；l、m和n各自代表选自1、2、3、4和5的一个整数；w、x、y和z各自代表0.01-0.99的摩尔分数； | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||