发明名称 | 变迹光纤光栅制造设备 | ||
摘要 | 变迹光纤光栅制造设备包括:紫外激光器;分束器;多个反射镜;相位掩模,它让反射的光束通过,以便以预定的周期在光纤内形成光栅;第一遮断装置,它位于相位掩模和反射镜之一之间,逐渐遮断两束光束之一,使之不能从一个方向投射在光纤上而向形成的光栅提供变迹;相对于光纤位于第一遮断装置对面的第二遮断装置,它逐渐遮断另一束光束,使之不能从另一个方向投射在光纤上,于是向形成的光栅提供变迹,使得在整个光栅上平均折射率的变化是恒定的。 | ||
申请公布号 | CN1175292C | 申请公布日期 | 2004.11.10 |
申请号 | CN00119988.9 | 申请日期 | 2000.06.30 |
申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 金世润;辛相吉;金玟成 |
分类号 | G02B6/124;G02B5/18 | 主分类号 | G02B6/124 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 吴增勇;张志醒 |
主权项 | 1.一种用于制造变迹光纤光栅的设备,它包括:紫外光激光器,用以发射紫外激光束;分束器,用以把从所述紫外激光器发射的所述紫外激光束分成两束光束;多个反射镜,用以形成光路,以便通过对所述光束的反射,把所述分开的光束同时从两个方向投射在光纤上;相位掩模,用以让所述反射的光束通过,以便以预定的周期在所述光纤内形成光栅;第一遮断装置,它在所述相位掩模和所述各反射镜之一之间,用来逐渐地遮断所述两束光束中的一束,使之不能从一个方向投射在所述光纤上,于是向所述形成的光栅提供变迹;和第二遮断装置,它可以移动并且相对于所述光纤而言位于所述第一遮断装置的对面,用来逐渐地遮断所述另一束光束,使之不能从另一个方向投射在所述光纤上,于是向所述形成的光栅提供变迹,使得在整个光栅上的平均折射率的变化恒定。 | ||
地址 | 韩国京畿道 |