发明名称 玻璃基片表面自组装稀土纳米膜的制备方法
摘要 一种玻璃基片表面自组装稀土纳米膜的制备方法。属于薄膜制备领域。本发明采用羟基化进行玻璃基片的预处理,用Pirahan溶液H<SUB>2</SUB>SO<SUB>4</SUB>∶H<SUB>2</SUB>O<SUB>2</SUB>体积比=70∶30,于室温下处理30min,再用去离子水淋洗,放在防尘装置内在烘箱中干燥,将处理后的玻璃基片浸入配置好的稀土改性剂中,静置8小时,取出后,用去离子水冲洗后,在室温中晾干后置于烘箱,于120摄氏度保温1个小时,即获得稀土自组装纳米薄膜,其中稀土改性剂的组分重量百分比为:乙醇含量:60%~80%,稀土化合物:4.5%~7%,乙二胺四乙酸:1%~4%,氯化铵:2%~5%,尿素:15%~25%,硝酸:0.5%~1.5%。本发明工艺方法简单,在玻璃基片表面制备的稀土自组装膜有明显减摩作用和抗磨损性能。
申请公布号 CN1544372A 申请公布日期 2004.11.10
申请号 CN200310108927.9 申请日期 2003.11.27
申请人 上海交通大学 发明人 程先华;上官倩芡;白涛;吴炬
分类号 C03C17/00;C03C17/22 主分类号 C03C17/00
代理机构 上海交达专利事务所 代理人 王锡麟;王桂忠
主权项 1、一种玻璃基片表面自组装稀土纳米膜的制备方法,其特征在于,采用表面经过羟基化的玻璃基片作为基底材料,在其表面采用自组装方法制备稀土纳米膜,方法如下:采用羟基化进行玻璃基片的预处理,用Pirahan溶液H2SO4∶H2O2体积比=70∶30,于室温下处理30min,再用大量去离子水淋洗,放在一个防尘装置内在烘箱中干燥,将处理后的玻璃基片浸入配置好的稀土改性剂中,静置8小时,取出后,用去离子水冲洗后,在室温中晾干后置于烘箱,于120摄氏度保温1个小时,即获得稀土自组装纳米薄膜,其中采用的稀土改性剂的组分重量百分比为:乙醇含量:60%~80%,稀土化合物:4.5%~7%,乙二胺四乙酸:1%~4%,氯化铵:2%~5%,尿素:15%~25%,硝酸:0.5%~1.5%。
地址 200240上海市闵行区东川路800号