在真空中涂覆基底的方法和设备

摘要

本发明涉及在一真空室中为一基底涂覆沉积材料的方法和设备，其中使用一具有基本纵向的沉积散发构件的材料源形成一基本纵向的材料沉积散发烟流，在不增加基底与材料源之间的喷射距离的情况下，该烟流涂覆基底的一个表面。

主权项

1.一种涂覆基底的真空沉积系统，它包括：一真空室；一位于所述真空室内的材料源，所述材料源具有一本体，该本体沿纵向轴线延伸，具有一基本纵向的散发构件，并构成一内腔和一流体连接于所述内腔的出口、一靠近所述出口定位的上端和一基部；以及一热源，沿所述本体的纵向轴线靠近所述材料源的所述本体定位，其中热源在材料源中产生一垂直温度梯度，该垂直温度梯度的计量从材料源的基部到材料源的上端，使得材料源的基部的温度比材料源的上端低。