| 发明名称 |
Applying epitaxial silicon in disposable spacer flow |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US2004219756(A1) |
申请公布日期 |
2004.11.04 |
| 申请号 |
US20040861438 |
申请日期 |
2004.06.03 |
| 申请人 |
CHO CHIH-CHEN;PING ER-XUAN |
发明人 |
CHO CHIH-CHEN;PING ER-XUAN |
| 分类号 |
H01L21/285;H01L21/8234;H01L21/8242;(IPC1-7):H01L21/336 |
主分类号 |
H01L21/285 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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