| 发明名称 | 电光装置的制造方法、电光装置、电子设备 | ||
| 摘要 | 一种电光装置的制造方法及通过这种方法制造的电光装置和电子设备。电光装置具有在基板(20)上将第1电极(23)、电光层(60)、第2电极(50)依次叠层而成的电光元件，其制造方法包括由气相成长法、在上述基板(20)上以覆盖上述电光元件的方式形成紫外线吸收层(30)的工序，和用等离子环境中的气相成长法、以覆盖上述紫外线吸收层(30)的方式形成气相阻断层(40)的工序。由此能防止由氧气、水分等气体或者紫外线引起的电光层等的恶化。 | ||
| 申请公布号 | CN1542708A | 申请公布日期 | 2004.11.03 |
| 申请号 | CN200410031532.8 | 申请日期 | 2004.03.23 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 林建二 |
| 分类号 | G09F9/30 | 主分类号 | G09F9/30 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李香兰 |
| 主权项 | 1.一种电光装置的制造方法，该电光装置具有在基板上至少把第1电极、电光层、第2电极依次叠层而构成的电光元件，其特征在于，包括利用气相成长法，在所述基板上，以覆盖所述电光元件的方式形成紫外线吸收层的工序，和利用等离子环境中的气相成长法，以覆盖所述紫外线吸收层的方式，形成气相阻断层的工序。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||