| 发明名称 | 制造成型二氧化硅玻璃坯体的方法 | ||
| 摘要 | 一种制造具有接近正确的最终尺寸及轮廓的均匀成型SiO<SUB>2</SUB>坯体的方法，其中无定形SiO<SUB>2</SUB>粒子从水性分散液中电泳沉积在不导电的膜上，该无定形SiO<SUB>2</SUB>粒子包括相对大的无定形SiO<SUB>2</SUB>粒子与相对小的无定形SiO<SUB>2</SUB>粒子，该膜的形状与构型对应于待制造的SiO<SUB>2</SUB>成型坯体，其中所述膜的平均孔隙大小大于较小的无定形SiO<SUB>2</SUB>粒子的平均粒度。 | ||
| 申请公布号 | CN1541961A | 申请公布日期 | 2004.11.03 |
| 申请号 | CN200410038459.7 | 申请日期 | 2004.04.28 |
| 申请人 | 瓦克化学有限公司 | 发明人 | 弗里茨·施韦特费格;霍尔格·西拉特;扬·塔贝利翁;罗尔夫－克劳斯·克拉森 |
| 分类号 | C03B19/12;C03B19/06;C03C3/04 | 主分类号 | C03B19/12 |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 过晓东 |
| 主权项 | 1.一种制造具有接近正确的最终尺寸及轮廓的均匀成型SiO2坯体的方法，其中无定形SiO2粒子从水性分散液中电泳沉积在不导电的膜上，该无定形SiO2粒子包括相对大的无定形SiO2粒子与相对小的无定形SiO2粒子，该膜的形状与构型对应于待制造的SiO2成型坯体，而且所述膜的平均孔隙大小大于所述相对小的无定形SiO2粒子的平均粒度。 | ||
| 地址 | 联邦德国慕尼黑 | ||