Method and apparatus for thin films formation by CVD,申请号EP19960308855-传众专利搜索

发明名称	Method and apparatus for thin films formation by CVD
摘要
申请公布号	EP0778358(B1)	申请公布日期	2004.11.03
申请号	EP19960308855	申请日期	1996.12.05
申请人	APPLIED MATERIALS, INC.	发明人	ROBLES, STUARDO;SIVARAMAKRISHNAN, VISWESWAREN;GALIANO, MARIA;KITHCART, VICTORIA
分类号	H01L21/31;C23C16/40;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/52;H01L21/316;(IPC1-7):C23C16/40	主分类号	H01L21/31
代理机构		代理人
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