用于铜/钽基材的化学机械抛光浆料

摘要

公开了一种包括：磨料、氧化剂、配合剂、成膜剂和有机氨化合物的第一种化学机械抛光浆料；和包括磨料、氧化剂和乙酸且其中氧化剂与乙酸的比例至少为10的第二种抛光浆料，还公开了用第一和第二种抛光浆料顺序抛光含铜和含钽或氮化钽或钽和氮化钽两种的基材的方法。

主权项

1.一种多包的化学机械抛光体系，该体系包括：第一包，其包括化学机械抛光浆液前体，该前体至少包括一种磨料；乙酸；及至少一种成膜剂；和第二包，其包括至少一种氧化剂，其中第一包与第二包的成分混合得到氧化剂与乙酸重量比大于10的抛光浆料；其中该氧化剂为含至少一个过氧基团的化合物或含一种处于其最高氧化态的元素的化合物。