光刻设备及装置制造方法

摘要

光刻投影设备包括：提供辐射投射光束的辐射源；支撑图案形成装置的支撑结构，该图案形成装置用于根据所需图案使投射光束形成图案；保持基底的基底台；将带图案的光束投射到基底靶部上的投影系统；该辐射源进一步包括：调节该辐射束的照明系统，以提供调节辐射束，使得能够照射该图案形成装置；该照明系统限定入射面，其中该辐射束进入该照明系统；和光束传输系统，包括将该投射光束从辐射源转向和传输到该照明系统的转向元件。光刻投影设备，其特征在于，光束传输系统包括将该辐射束从与该入射面具有一定距离处的物面成像至位于该入射面处或附近的像面的成像系统。这样，可显著减少激光指向偏差对在该入射面处光束位置和指向偏差上的影响。

主权项

1.一种光刻投影设备，包括：-用于提供辐射投射光束的辐射源；-用于支撑图案形成装置的支撑结构，该图案形成装置用于根据所需的图案使投射光束形成图案；-用于保持基底的基底台；-用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投影系统；所述辐射源进一步包括：-用于调节所述辐射束的照明系统，以提供一调节辐射束，使其能够照射所述图案形成装置；所述照明系统限定入射面，其中所述辐射束进入所述照明系统；和-光束传输系统，包括用于将所述投射光束从辐射源转向和传输到所述照明系统的转向元件，其特征在于，-所述光束传输系统包括一个成像系统，用于将所述辐射束从与所述入射面具有一定距离处的物面成像至靠近或位于所述入射面处的像面。