光刻装置，器件制造方法，掩模以及确定掩模和/或薄膜特征的方法

摘要

一种厚薄膜被允许具有不平坦的外形并且其外形被特性化以计算用于曝光中的校正量，来补偿所述薄膜的光学效果。所述薄膜可以被设置得采用重力作用下的一维外形，以便更容易地进行补偿。

主权项

1.一种光刻投影装置，包括：用于提供辐射投影光束的辐射系统用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投影光束进行构图；用于保持基底的基底台；和用于将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统；和具有与周围介质不同的折射率并且对于所述投影光束基本透明的层，其处于所述构图装置和基底之间的投影光束的光路中；其特征在于：一存储器件，其适于存储关于所述层的物理和/或光学特性的信息；一控制器，其适于根据存储在所述存储器件中的信息控制所述投影系统、所述辐射系统、所述基底台和所述支撑结构中的至少一个，以补偿或改善由所述层引起的除沿装置光轴的表观掩模位置移动之外的成像偏差。