双层辉光离子渗碳装置及工艺

摘要

本发明双层辉光离子渗碳装置及工艺，其属于金属材料表面化学热处理工艺技术的范畴。具体的来讲是一种在导电物质的表面利用双层辉光离子渗金属中的空心阴极效应及不等电位空心阴极效应，进行离子渗碳与碳—氮共渗的技术和装置。本发明提供了以石墨为供给碳源的辉光溅射渗入装置和方法。空心阴极效应及不等电位空心阴极效应，加强了碳的渗入及可控性。充入含氮气氛可以实现碳氮共渗。本发明是一种碳原子形成方便、快捷、无污染、渗入速度快，渗层均匀，成份可控，设备简单，成本低、无氢渗碳的辉光放电技术及装置。

主权项

1.双层辉光离子渗碳装置，其特征在于，主要由可以转动和升降的阴极转动系统(1)，阴极转动系统上有阴极托盘(2)，中空的辅助阴极(3)，工件(4)，提供渗碳用的作为阴极的石墨源极(5)，接地的真空容器(6)，高压直流加热电源(7)，高压直流溅射电源(8)，抽真空系统(9)，进气系统(10)所组成，高压直流加热电源(7)的阴极接在工件(4)，高压直流溅射电源(8)的阴极接在石墨源极(5)上，高压直流溅射电源和高压直流加热电源的阳极都接在接地的真空容器(6)上，工件(4)放置在辅助阴极(3)空腔内的阴极托盘(2)上。