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经营范围
发明名称
Umsetzung von hochsiedenden Rückständen der Direktsynthese in Monosilane
摘要
申请公布号
DE60013971(D1)
申请公布日期
2004.10.28
申请号
DE20006013971
申请日期
2000.07.06
申请人
DOW CORNING CORP., MIDLAND
发明人
BRINSON, JONATHAN ASHLEY;CRUM, BRUCE ROBERT;JARVIS, JR.
分类号
B01J27/10;C01B33/04;C01B33/107;(IPC1-7):C01B33/107
主分类号
B01J27/10
代理机构
代理人
主权项
地址
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