Verfahren zum Füllen von tiefen Grabenstrukturen mit Füllungen ohne Hohlräume

摘要

Die vorliegende Erfindung stellt Verfahren zum Herstellen von Grabenstrukturen mit Füllungen bereit, die im wesentlichen frei von Hohlräumen sind. Die Füllungen können von einem Linermaterial, wie etwa Polysilizium, aus aufgewachsen werden, das entlang der Seitenwände eines Grabens ausgebildet ist. Zuvor ausgebildete Hohlräume können ausgeheilt werden, indem die Hohlräume freigelegt werden und epitaxiales Silizium aufgewachsen wird.