| 发明名称 |
Verfahren zum Herstellen eines nichtflüchtigen Halbleiterspeicherbauteils |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE19983274(B4) |
申请公布日期 |
2004.10.28 |
| 申请号 |
DE19991083274 |
申请日期 |
1999.04.01 |
| 申请人 |
ASAHI KASEI MICROSYSTEMS CO |
发明人 |
NAITO FUMIO;IMAI HISAYA;MOCHIZUKI HIDENORI |
| 分类号 |
H01L21/8238;H01L21/8247;H01L27/105;H01L27/115;H01L29/788;H01L29/792;(IPC1-7):H01L21/824 |
主分类号 |
H01L21/8238 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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