发明名称 包括每个有浮动栅和控制栅极的MOS晶体管的半导体存储器
摘要 一种半导体存储器件包括多个存储单元(MC),多个局部位线(LBL),全局位线(WGBL,RGBL),第一开关元件(SEL),和保持电路(60)。存储单元(MC)包括第一(MT)和第二MOS晶体管(ST)。第一MOS晶体管(MT)具有电荷积聚层(150)和控制栅极(170)。第二MOS晶体管(ST)具有连接到第一MOS晶体管(MT)的电流通路的一端的其电流通路的一端。局部位线(LBL)连接第一MOS晶体管(MT)的电流通路的另一端。第一开关元件(SEL)在局部位线(LBL)和全局位线(WGBL,RGBL)之间连接。保持电路(60)连接到全局位线(WGBL,RGBL),并且保存待写入到存储单元(MC)中的数据。
申请公布号 CN1540759A 申请公布日期 2004.10.27
申请号 CN200410003680.9 申请日期 2004.02.05
申请人 株式会社东芝 发明人 梅沢明;长谷川武裕
分类号 H01L27/105;H01L27/115;H01L29/78;H01L29/788;H01L23/52 主分类号 H01L27/105
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 付建军
主权项 1.一种半导体存储器件,其特征在于包括:多个存储单元(MC),每个存储单元包括具有电荷积聚层(150)和控制栅极(170)的第一MOS晶体管(MT),以及其电流通路的一端连接到第一MOS晶体管(MT)的电流通路的一端的第二MOS晶体管(ST);多个局部位线(LBL0,LBL1),每个局部位线连接第一MOS晶体管(MT)的电流通路的另一端;全局位线(WGBL,RGBL),局部位线(LBL)的两个或多个共同地连接到其上;第一开关(SEL)元件,其在局部位线(LBL)和全局位线(WGBL,RGBL)之间连接;以及保持电路(60),其连接到全局位线(WGBL)并且保存待写入到存储单元(MC)中的数据。
地址 日本东京都