| 发明名称 |
SEMICONDUCTOR COMPONENT WITH AN INSULATING LAYER AND METHOD FOR THE PRODUCTION OF A SEMICONDUCTOR COMPONENT WITH AN INSULATING LAYER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1470578(A1) |
申请公布日期 |
2004.10.27 |
| 申请号 |
EP20030734672 |
申请日期 |
2003.01.16 |
| 申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
BEITEL GERHARD;BIRNER ALBERT;HECHT THOMAS;LUETZEN JOERN;SAENGER ANNETTE;SEIDL HARALD |
| 分类号 |
H01L21/02;H01L21/28;H01L21/314;H01L21/8242;H01L29/51;(IPC1-7):H01L21/314 |
主分类号 |
H01L21/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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