发明名称 光束均匀器、激光照射装置及半导体装置制造方法
摘要 本发明提供一种光束均匀器,其能形成在长轴方向具有均匀能量分布的矩形束斑,而无需使用需要高精度制造的光学透镜。此外,本发明提供一种激光照射装置,其能照射出在长轴方向具有均匀能量分布的激光束。另外,本发明提供一种制造半导体装置的方法,其能增强衬底表面的可结晶性,并且制造出具有较高工作性能的TFT。本发明之一的光束均匀器将被照射表面上的束斑整形成具有10或更高,优选为100或更高长宽比的矩形束斑,并且该光束均匀器包括一光波导,该光波导用于使矩形束斑在其长轴方向的能量分布均匀化。
申请公布号 CN1540390A 申请公布日期 2004.10.27
申请号 CN200410043042.X 申请日期 2004.04.23
申请人 株式会社半导体能源研究所 发明人 田中幸一郎;森若智昭
分类号 G02B27/10;H01S3/00;H01L21/00 主分类号 G02B27/10
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 邹光新;梁永
主权项 1、一种光束均匀器,包括:用于使束斑在一个方向的能量分布均匀化的光学系统,该束斑为线形,该光学系统包括:光波导,其包括一对相对设置的反射面,其中所述一个方向为线形的长轴方向,并且其中激光束入射到光波导的一个端部,并且从该光波导的另一端部射出。
地址 日本神奈川县