发明名称 |
光束均匀器、激光照射装置及半导体装置制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种光束均匀器,其能形成在长轴方向具有均匀能量分布的矩形束斑,而无需使用需要高精度制造的光学透镜。此外,本发明提供一种激光照射装置,其能照射出在长轴方向具有均匀能量分布的激光束。另外,本发明提供一种制造半导体装置的方法,其能增强衬底表面的可结晶性,并且制造出具有较高工作性能的TFT。本发明之一的光束均匀器将被照射表面上的束斑整形成具有10或更高,优选为100或更高长宽比的矩形束斑,并且该光束均匀器包括一光波导,该光波导用于使矩形束斑在其长轴方向的能量分布均匀化。 |
申请公布号 |
CN1540390A |
申请公布日期 |
2004.10.27 |
申请号 |
CN200410043042.X |
申请日期 |
2004.04.23 |
申请人 |
株式会社半导体能源研究所 |
发明人 |
田中幸一郎;森若智昭 |
分类号 |
G02B27/10;H01S3/00;H01L21/00 |
主分类号 |
G02B27/10 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
邹光新;梁永 |
主权项 |
1、一种光束均匀器,包括:用于使束斑在一个方向的能量分布均匀化的光学系统,该束斑为线形,该光学系统包括:光波导,其包括一对相对设置的反射面,其中所述一个方向为线形的长轴方向,并且其中激光束入射到光波导的一个端部,并且从该光波导的另一端部射出。 |
地址 |
日本神奈川县 |