发明名称 |
双面金属波导测量方法及其装置 |
摘要 |
双面金属波导测量方法及其装置属于物理测量领域。装置由上至下由耦合器件、上层金属膜、待测薄膜层、下层金属膜构成,待测薄膜层和上下层金属膜为双面金属波导结构,上下层金属膜为波导的上下覆盖层,光主要在待测薄膜层中传输。方法如下:在待测薄膜的两面采用蒸镀、溅射或其它方法形成本发明装置;选择激光波长和入射角度及偏振方式;接收并记录从耦合器件底面反射的激光束光强,或从下层金属膜透射出的激光束光强;变化激光入射角度得到光强—入射角度曲线,找出导模吸收峰的共振角度和相应吸收峰的宽度和深度,计算得到薄膜材料的折射率和厚度值。本发明实现了高精确度、大量程、快速实时的测量,装置制造工艺简单、价格低廉、易于操作、小型化。 |
申请公布号 |
CN1173166C |
申请公布日期 |
2004.10.27 |
申请号 |
CN02136611.X |
申请日期 |
2002.08.22 |
申请人 |
上海交通大学 |
发明人 |
曹庄琪;陈洸;沈启舜;李红根;周峰 |
分类号 |
G01N21/86;G01N21/55;G01N21/59;G01B11/06 |
主分类号 |
G01N21/86 |
代理机构 |
上海交达专利事务所 |
代理人 |
王锡麟 |
主权项 |
1、一种双面金属波导测量装置,其特征在于,采用高折射率棱镜n>1.5、光栅和耦合波导器件,或进行空气直接耦合作为耦合器件(1);采用对工作波长吸收较小的金属,种类为银、金、铝、铜,在光频范围内介电常数虚部较小的金属,其介电常数实部εr≤-10,介电常数虚部εi≤5.0来制作上层金属膜(2)和下层金属膜(4),且上层金属膜(2)的厚度在20nm~80nm之间,下层金属膜(4)的厚度根据测量方式确定,采用反射光测量方式时,大于100nm,采用透射光测量方式时,小于30nm;待测薄膜层(3)的厚度在0.5μm~1000μm之间,厚度必须承载三个以上的导波共振模式,其折射率在1.0~2.3之间;测量装置由上至下由耦合器件(1)、上层金属膜(2)、待测薄膜层(3)、下层金属膜(4)构成,其中,上层金属膜(2)、待测薄膜层(3)和下层金属膜(4)为双面金属波导结构,上层金属膜(2)、下层金属膜(4)为波导的上下覆盖层,待测薄膜层(3)处于波导结构的传输层,导波光在待测薄膜层(3)里传输。 |
地址 |
200030上海市华山路1954号 |