发明名称 平板荫罩图形设计方法
摘要 本发明公开了一种平板荫罩图形设计方法,旨在提供一种具有画面清晰、平板荫罩斜向透过率高,彩色显像管电子束着屏后的束斑形状不变形且更加饱满,并可提高对彩色显像管着屏情况判断和分析的可靠性,减少电子束着屏偏差现象,增加彩色显像管色纯裕度的平板荫罩图形设计方法,本发明它使用下述设计参数:照相用原版上槽孔图形的点子尺寸为0.55~0.85mm,平板荫罩槽孔尺寸为0.175~0.200mm,平板荫罩厚度T为0.22~0.25mm,平板荫罩侧刻蚀量的设计为:(D<SUB>槽孔</SUB>-D<SUB>照相</SUB>)/T=47.0%~55.0%,本发明可用于各类彩色显像管平板荫罩的制造。
申请公布号 CN1540703A 申请公布日期 2004.10.27
申请号 CN03116557.5 申请日期 2003.04.23
申请人 上海新芝电子有限公司 发明人 陈颖明;方轶桦;林烽;顾俊;吴志文
分类号 H01J9/14 主分类号 H01J9/14
代理机构 上海申汇专利代理有限公司 代理人 欧阳坚
主权项 1.一种平板荫罩图形设计方法,它包括:照相用原版上槽孔图形的点子、平板荫罩槽孔、平板荫罩厚度T、平板荫罩侧刻蚀量,其特征是,所述的照相用原版上槽孔图形的点子尺寸为0.55~0.85mm;所述的平板荫罩槽孔尺寸为0.175~0.200mm;所述的平板荫罩厚度T为0.22~0.25mm;所述的平板荫罩侧刻蚀量的设计为:(D槽孔-D照相)/T=47.0%~55.0%。
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