发明名称 | 平板荫罩图形设计方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种平板荫罩图形设计方法,旨在提供一种具有画面清晰、平板荫罩斜向透过率高,彩色显像管电子束着屏后的束斑形状不变形且更加饱满,并可提高对彩色显像管着屏情况判断和分析的可靠性,减少电子束着屏偏差现象,增加彩色显像管色纯裕度的平板荫罩图形设计方法,本发明它使用下述设计参数:照相用原版上槽孔图形的点子尺寸为0.55~0.85mm,平板荫罩槽孔尺寸为0.175~0.200mm,平板荫罩厚度T为0.22~0.25mm,平板荫罩侧刻蚀量的设计为:(D<SUB>槽孔</SUB>-D<SUB>照相</SUB>)/T=47.0%~55.0%,本发明可用于各类彩色显像管平板荫罩的制造。 | ||
申请公布号 | CN1540703A | 申请公布日期 | 2004.10.27 |
申请号 | CN03116557.5 | 申请日期 | 2003.04.23 |
申请人 | 上海新芝电子有限公司 | 发明人 | 陈颖明;方轶桦;林烽;顾俊;吴志文 |
分类号 | H01J9/14 | 主分类号 | H01J9/14 |
代理机构 | 上海申汇专利代理有限公司 | 代理人 | 欧阳坚 |
主权项 | 1.一种平板荫罩图形设计方法,它包括:照相用原版上槽孔图形的点子、平板荫罩槽孔、平板荫罩厚度T、平板荫罩侧刻蚀量,其特征是,所述的照相用原版上槽孔图形的点子尺寸为0.55~0.85mm;所述的平板荫罩槽孔尺寸为0.175~0.200mm;所述的平板荫罩厚度T为0.22~0.25mm;所述的平板荫罩侧刻蚀量的设计为:(D槽孔-D照相)/T=47.0%~55.0%。 | ||
地址 | 200233上海市漕河泾开发区钦江路288号 |