发明名称 采用超紫外光的图形发生器
摘要 本发明涉及到一种用来在工件上产生诸如半导体芯片上的图形之类的具有极高分辨率的图形的装置。此装置包含用来发射EUV波长范围的电磁辐射源、具有多个象素的空间调制器(SLM)、接受待要写入的图形的数字表述、从中提取分图形序列、将所述分图形转换成调制器信号并将所述信号馈送到调制器的电子数据处理和发送系统、用来彼此相关地移动所述工件和/或投影系统的精密机械系统。它还包含对工件的运动、到调制器的信号馈送和辐射的强度进行协调以便将分图象缝合在一起形成所述图形的电子控制系统。
申请公布号 CN1173234C 申请公布日期 2004.10.27
申请号 CN99803476.2 申请日期 1999.03.02
申请人 微激光系统公司 发明人 托布约姆·桑德斯特罗姆
分类号 G03F7/20;G03F7/207;G02B26/00;G03F1/00;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 王永刚
主权项 1.一种用来在工件上产生图形的装置,包括:用来发射EUV波长范围的电磁辐射源,适合于被所述辐射照明的具有多个调制元件/象素的空间光调制器,在工件上产生调制器的图象的投影系统,电子数据处理和发送系统,它接收待要写入的图形的数字表述、从中提取分图形序列、将所述分图形转换成调制器信号、以及将所述信号馈送到调制器,用来彼此相关地移动所述工件和/或投影系统的精密机械系统,协调工件的运动、到调制器的信号馈送、以及辐射的强度,使所述图形从分图形序列产生的分图象缝合在一起的电子控制系统。
地址 瑞典泰比
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