| 发明名称 | 环形溅射靶 | ||
| 摘要 | 一种设计用于将材料均匀地溅射到基片上的溅射靶(10)。该靶(1)含有基部区(12)、圆盘形区域(14)、外环形区域(16)、外边缘区域(18)和外边缘(20)。锥形区域(22)起到在易于不均匀溅射区域中进行整平溅射的作用。一凸缘(26)含有螺纹孔(28)，以便于将溅射靶(10)与溅射容器固定在一起。该外环形区域(16)具有一用以延长溅射靶(10)使用寿命的隆起高度。区域(14)具有的隆起高度小于外环形区域(16)的隆起高度，以增大靠近区域(14)处的基片上的溅射沉积速率。 | ||
| 申请公布号 | CN1541281A | 申请公布日期 | 2004.10.27 |
| 申请号 | CN02811390.X | 申请日期 | 2002.05.31 |
| 申请人 | 普莱克斯S.T.技术有限公司 | 发明人 | D·R·马克斯;R·马休;A·斯诺曼;C·R·菲舍尔 |
| 分类号 | C23C14/34 | 主分类号 | C23C14/34 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 温大鹏;章社杲 |
| 主权项 | 1、一种用于将材料沉积在基片上的溅射靶(10)，包含一圆盘，该圆盘具有溅射寿命，一半径和一顶面，该顶面在半径的内半部分内有一中央区域(14)，该中央区域(14)有一溅射沉积速度；在半径的外半部分内有一外环形区域(16)以及一将中央区域(14)和外环形区域(16)分隔开的基部区(12)，该外环形区域(16)具有一用以延长溅射靶(10)的溅射寿命的隆起高度，同时当从基部区(12)进行测量时，中央区域(14)具有的隆起高度小于外环形区域(16)的隆起高度，用以增大邻近中央区域(14)放置的基片上的沉积速率和提高溅射均匀性。 | ||
| 地址 | 美国康涅狄格州 | ||